Sistema de pulverització magnètica en línia
La màquina de recobriment de magnetrons en línia és principalment DC (o MF) El recobriment de magnetrons es pot adaptar a una àmplia gamma d'objectius, com ara: coure, titani, crom, acer inoxidable, níquel i altres materials metàl·lics que es poden revestir mitjançant un procés de catòfora. pot millorar l'adhesió de la pel·lícula, la reproductibilitat, la densitat, la uniformitat i altres característiques.
- a.Les característiques i paràmetres bàsics
- b.L'estructura de línia horitzontal es pot realitzar simultàniament recoberta per un costat
- c.eficiència de producció, les velocitats més ràpides de fins a 1 min / ritme
- d.disseny modular, fàcil manteniment
- e.maduresa del procés de xapat, alt rendiment
- f.Els càtodes de pulverització de magnetron DC poden variar segons els requisits del client
- g.El sistema de buit consta d'una bomba mecànica, bombes Roots, bombes de difusió (bomba molecular) Composició
- h.La mida del cos de la línia pot variar segons els requisits del client
- 1) Els materials del cos de la cambra de buit utilitzaven SUS304, polint un tractament de paret de la cambra de buit, processament de perles de poliment per polvorització de la paret exterior.
- 2) L'ús d'una vàlvula de compuerta independent entre la cambra de buit i la vàlvula de flapper a part, pot tallar eficaçment, estabilitzar el gas del procés.Actualment, la nostra empresa adopta el disseny de la vàlvula de flapper, segella millor, més duradora que la vàlvula de solapa comuna actual.
- 3) La transmissió utilitza una guia magnètica, protegeix l'estabilitat de la unitat.Per a cada velocitat de tota la línia de producció amb motor VVVF, es pot ajustar la velocitat de funcionament.
- 4) Sistema de control elèctric: pantalla tàctil i control automàtic PLC, diàleg home-màquina per aconseguir el sistema de visualització de dades, paràmetres de funcionament i tecnologia de control
- 1) Pressió de buit final: 6 × 1 0E-4 Pa
- 2) el cicle mitjà de producció: segons el producte determinat
- 3) Mida del suport del substrat: es pot personalitzar segons els requisits de
- 4) Uniformitat de la pel·lícula: ± 3% La tecnologia de camp mòbil avançada ha millorat molt la utilització de l'objectiu
- El disseny de l'escalfador segmentat afavoreix l'optimització del procés.
Escriu el teu missatge aquí i envia'ns-ho
